2021年08月26日(木) 旧暦 [n年日記] [更新:"2021/09/08 07:59:43"]
#1 [Resists][Resist] ZEP530A の感度曲線(contrast curve)
目的:
ZEP530A の感度曲線(contrast curve) を作って、
最適な DOSE を求める
(僕のいつも言っている定義と、この 「最適な DOSE」は違います、
ここでの定義は、感度曲線が、飽和する点、です。多分、きょうから、この定義
に変えて行くつもりです)
＠ 1. GDSII:
64 um x 5 m/m を 1:1 に 20 本並べる。それぞれを 1 から 20 までの layer
に振っておく。横幅は、 128 x 20 = 2.56 (m/m) くらい
(実は 今回作ったものは X 軸 が 0..2.5 (m/m)と右にシフトしている)
(実は 今回作ったものは X 軸 が 0..2.5 (m/m)と右にシフトしている)
＠ 2. BEF 変換:
Spread Sheet software で 0.1 から 0.6 まで x1.1 の等比級数を用意して
1, 0.1 2, 0.11 3, 0.12 .. ... 20, 0.61のようなもの (csv 形式)を用意する
- BEAMER の FDA module を使い、 方法は
- Assignment Tab で
- Mode: ByLayer
- Assignment Type: Multiply
- Import で上記の csv を読む
- Advantest 形式に Export する
＠ 3. 洗浄:
4 inch Si Wafer APM 過酸化水素水:アンモニア水:純水 1:1:5 80 deg 10 min 純水でリンス x 2 HF 0.5% 30s (撥水するまで) 純水でリンス x 2 脱水(dehydration) 110 2 分
＠ 4. Spin coat:
ZEP530A 2 ピペット
肥後先生の作った ZEP530A spin curve の図から、(4/25 exective@ 宛のもの)
肥後先生の作った ZEP530A spin curve の図から、(4/25 exective@ 宛のもの)
210 nm ねらいの 2000 rpm とする 500 3.0 5.0 2000 5.0 60.0 pre-bake 180 deg 5 min
＠ 5. 描画準備:
WEC Editor
上で, X 方向の Area Pitch は 3 m/m として。
A A A A A Aのように左側、中央、右側に並べて、その二つ組の左側を DOSE 100, 右側を DOSE 600 とする。 これで
10 .. 60 60 .. 366の 1.1 倍の等比級数に振ったことになる
＠ 描画:
Estimate 機能では 26 分と出ていたが、実際には 18 分くらいで描画終了
EXP- date start sec rate hh:mm:ss BUF adj
-------- -------- -------- ------ ---- -------- -- --
w 9067 20210826 19:31.00 1060 1.07 0:17.40 (1 - 31)
FP mA WEC FocusPoint BEF errors
[--] - ---------------
[81] D-LAB_makoto_ZEP530A-contrast-curve
Focus_points_file_waf100mm_81point
＠ 6. 現像:
(手で現像する)
ZED-N60 60 sec IPA 10 sec IPA 10 sec
＠ 7. 測定:
DekTak で段差を見る
実際に使ったのは 60 .. 366 の部分だけです 測定途中の spread sheet を添付します (もう少し測定します、ちょっと数字が怪しいのと、右側はまだ測っていません)
＠ 8. 仮結論:
DOSE は 140 あるいは 150 と(僕は)思います。
＠ 9. 今後:
- もう少しくわしく、測定して、図も添付して報告とします
- 上記 dose に固定して、size の変化を調べます
- L/S, CP の大きさ
- どこまで小さい方に解像するかも調べます
( Post message... )
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